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Índice h | 59 | 46 |
Índice i10 | 173 | 145 |
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Coautores
- Lars Hultman, Professor, PhDLinköping University, Department of Physics, IFME-mail confirmado em ifm.liu.se
- Per O.Å. PerssonLinköping UniversityE-mail confirmado em liu.se
- Johanna RosenLinköping UniversityE-mail confirmado em liu.se
- Hans HögbergLektor Linköpings universitetE-mail confirmado em liu.se
- Arnaud le FebvrierThin Film Physics Group Department of Physics, Chemistry and Biology (IFM) Linköping UniversityE-mail confirmado em liu.se
- Qing HuangChinese Academy of ScienceE-mail confirmado em nimte.ac.cn
- Michel W. BarsoumDrexel UniversityE-mail confirmado em drexel.edu
- Joseph HalimIFM dept., Linköping University, SwedenE-mail confirmado em liu.se
- Biplab PaulDocent, Linköping University (Sweden)E-mail confirmado em liu.se
- Grzegorz (Greg) GreczynskiLinköping UniversityE-mail confirmado em liu.se
- Youbing LiSoochow UniversityE-mail confirmado em nimte.ac.cn
- Ke ChenNingbo Institute of Materials Technology and Engineering, Chinese Academy of SciencesE-mail confirmado em nimte.ac.cn
- Björn AllingAssociate professor in Thin Film Physics, Linköping University, SwedenE-mail confirmado em ifm.liu.se
- Rui ShuLinköping UniversityE-mail confirmado em liu.se
- Mian LiNingbo Institute of Materials Technology & Engineering, Chinese Academy of SciencesE-mail confirmado em nimte.ac.cn
- Jie ZhouLinkoping UniversityE-mail confirmado em liu.se
- Xian-Hu ZhaShenzhen University (深圳大学)E-mail confirmado em szu.edu.cn
- Justinas PalisaitisAssociate Professor, Linköping University, SwedenE-mail confirmado em liu.se
- Martin DahlqvistMaterials Design Division, Department of Physics, Chemistry, and Biology (IFME-mail confirmado em liu.se
- Ngo Van NongProfessor, Head of Division, Center for Low-temperature Plasma Sciences, Nagoya UniversityE-mail confirmado em plasma.engg.nagoya-u.ac.jp