Obter meu próprio perfil
Citado por
Todos | Desde 2019 | |
---|---|---|
Citações | 1296 | 691 |
Índice h | 20 | 15 |
Índice i10 | 24 | 19 |
Acesso público
Ver todos3 artigos
1 artigo
disponível
não disponível
Com base nas autorizações de financiamento
Coautores
- Daniel GallProfessor, Materials Science and Engineering, Rensselaer Polytechnic InstituteE-mail confirmado em rpi.edu
- R. Joseph KlineNational Institute of Standards and TechnologyE-mail confirmado em nist.gov
- Daniel SundayNational Insitute of Standards and TechnologyE-mail confirmado em nist.gov
- Ferdows Zahid (ORCID:0000-0001-93...Independent University, Bangladesh (IUB)E-mail confirmado em iub.edu.bd
- Ruopeng DengProcess Development Engineer, Lam ResearchE-mail confirmado em lamresearch.com
- Sophie CazottesMateis - INSA LyonE-mail confirmado em insa-lyon.fr
- Gerhard DehmDirector, Max-Planck-Institut für EisenforschungE-mail confirmado em mpie.de
- David J. MichalakIntel CorporationE-mail confirmado em intel.com
- K. S. NarayanJawaharlal Nehru Centre for Advanced Scientific ResearchE-mail confirmado em jncasr.ac.in
- Dhritiman GuptaAssociate Professor, VIT UniversityE-mail confirmado em vit.ac.in
- Nikhil DoleSenior Panel Process Engineer, AppleE-mail confirmado em apple.com